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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [RRC 연구센터 문의]
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미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [플라즈마트 및 휘팅커 회사]
[1] | 10539 |
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Ar traction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [Chamber wall과 radical reaction]
[1] | 15989 |
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[Sputter Forward,Reflect Power] [Sputter와 matching]
[1] | 31457 |
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RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
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Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다.
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H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다.
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[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
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[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다.
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45 |
ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process]
[2] | 35158 |
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UBM 스퍼터링 장비로… [UBM과 열팽창 및 coating]
[1] | 21073 |
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N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [Cooling과 Etch rate]
[2] | 24023 |
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H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점… [폭발과 pressure]
[1] | 24938 |
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몇가지 질문있습니다
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Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술]
[1] | 22694 |
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Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [플라즈마 및 반응기 임피던스]
[1] | 23067 |
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Full Face Erosion 관련 질문
[2] | 19560 |
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RF에 대하여...
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36 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
| 24367 |
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35 |
DC Bias Vs Self bias [전자 에너지 분포]
[5] | 31860 |
