번호 제목 조회 수
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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72366
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 102959
34 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 25107
33 RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도 20558
32 교육 기관 문의 17834
31 스퍼터링시 시편 두께와 박막두께 [박막의 하전량 변화] [1] 21956
30 PECVD에서 플라즈마 demage가 발생 조건 [쉬스와 플라즈마 밀도에 의한 damage] 30052
29 플라즈마 코팅 관하여 [PECVD와 화학물 코팅] 22196
28 wafer 전하 소거: 경험 있습니다. 20585
27 DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 [플라즈마 부유 전위] 19787
26 DC SPT 문의 [절연체의 전위] 19766
25 sputter 16965
24 Arcing [아크의 종류와 발생 원인] 24346
23 Splash 발생 및 감소 방안은 없는지요? [Splash와 TG Maker] 18168
22 plasma cleanning에 관하여 [Sputtering과 Etch] 20952
21 ICP 식각에 대하여… [Electronegative plasma] 17071
20 박막 형성 [ICP와 MOCVD] 15365
19 플라즈마를 이용한 폐기물 처리 [코로나 방전, 먼지 집진] 19717
18 플라즈마 처리 [표면처리와 Plasma Chemistry] 17022
17 플라즈마내에서의 아킹 [Charge와 plasma potential] 43900
16 스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 [Capacitance와 DC ripple] 18053
15 sputtering 18412

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