Etch RIE Gas 질문 하나 드려도될까요?

2023.08.30 08:55

윤성 조회 수:340

RIE(13.56Mhz) 설비 SET UP 도중 압력 0.2 Torr Gas SF6 30 Sccm 공정 조건에서 Matcher가 Matching position 을 잡지 못하고 흔들리는 현상으로 Matcher circuit에 Low pass filter 장착 후 그 현상이 사라 졌습니다.

위에 현상에 대한 정보가 부족 하지만 답변 주셔서 감사합니다.

 

특이사항이 CF4, Ar Gas 에서는 위에 현상이 나타나지않으며 SF6 가스에만 위에 현상이 나타나는건 Gas의 특성이라고 보면될까요? 

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] 77161
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20441
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57344
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68884
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92919
69 플라즈마 식각 커스핑 식각량 53
68 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 65
67 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 79
66 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 223
65 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 263
64 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 282
63 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 298
62 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 308
» RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 340
60 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 377
59 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 378
58 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 414
57 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 426
56 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 506
55 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 565
54 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 615
53 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 639
52 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 664
51 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 682
50 Polymer Temp Etch [1] 706
쓰기
태그

Boards

XE Login