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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 117292
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24 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 1642
23 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 3705
22 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 3606
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19 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극] [1] 4107
18 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [Sputter와 sheath, flux] [1] 4937
17 Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과] [1] 4123
16 DC스퍼터링과 RF 스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [플라즈마 생성과 Sputtering] [2] 6521
15 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [플라즈마트 및 휘팅커 회사] [1] 13053
14 Ar traction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [Chamber wall과 radical reaction] [1] 18395
13 [Sputter Forward,Reflect Power] [Sputter와 matching] [1] 34281
12 Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. 21446
11 UBM 스퍼터링 장비로… [UBM과 열팽창 및 coating] [1] 23520
10 몇가지 질문있습니다 17453
9 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 26197
8 DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 [플라즈마 부유 전위] 20745
7 sputter 17910
6 Splash 발생 및 감소 방안은 없는지요? [Splash와 TG Maker] 19169
5 스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 [Capacitance와 DC ripple] 19132

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