|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[329]
| 98336 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 23871 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 60547 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 72420 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 103144 |
|
24 |
RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다.
| 311 |
|
23 |
Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화]
[1] | 461 |
|
22 |
Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해]
[1] | 342 |
|
21 |
gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제]
[1] | 505 |
|
20 |
RF Sputtering Target Issue [Sputtering]
[2]  | 1002 |
|
19 |
부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극]
[1] | 1744 |
|
18 |
sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [Sputter와 sheath, flux]
[1] | 2650 |
|
17 |
Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과]
[1] | 1728 |
|
16 |
DC스퍼터링과 RF 스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [플라즈마 생성과 Sputtering]
[2] | 4132 |
|
15 |
미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [플라즈마트 및 휘팅커 회사]
[1] | 10643 |
|
14 |
Ar traction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [Chamber wall과 radical reaction]
[1] | 16067 |
|
13 |
[Sputter Forward,Reflect Power] [Sputter와 matching]
[1] | 31573 |
|
12 |
Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다.
| 20506 |
|
11 |
UBM 스퍼터링 장비로… [UBM과 열팽창 및 coating]
[1] | 21146 |
|
10 |
몇가지 질문있습니다
| 16640 |
|
9 |
스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
| 25112 |
|
8 |
DCMagnetron Sputter에서 (+)전원 인가시 [플라즈마 부유 전위]
| 19787 |
|
7 |
sputter
| 16966 |
|
6 |
Splash 발생 및 감소 방안은 없는지요? [Splash와 TG Maker]
| 18170 |
|
5 |
스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 [Capacitance와 DC ripple]
| 18054 |
