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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment]
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연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어]
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RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화]
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고진공 만드는방법. [System material과 design]
[1] | 1266 |
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Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [ESC coating와 dummy load]
[1] | 2731 |
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analog tuner관련해서 질문드립니다. [박막 플라즈마 및 tunning 원리]
[1] | 2558 |
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플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다.. 도와주십시오 ㅠㅠ [플라즈마의 진공과 가스 주입]
[1] | 10326 |
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스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
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반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
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석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어]
[1] | 20436 |
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전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield]
[1] | 21488 |
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Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시]
[1] | 28966 |
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RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리]
[1] | 25019 |
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CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어]
[1] | 20631 |
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공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [공정 과정 및 장치 상태]
[2] | 26845 |
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Ground에 대하여
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Peak RF Voltage의 의미
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Electrode의 역할에 대해서 궁금합니다. [이차전자의 방출과 스퍼터링]
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5 |
반응기의 면적에 대한 질문 [전극의 면적에 따른 전압 강하]
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