안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~

장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77208
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20465
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57361
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68900
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92946
24 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 651
23 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 667
22 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 866
21 고진공 만드는방법. [1] 1020
20 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1368
» Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2268
18 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 10048
17 반응기의 면적에 대한 질문 12817
16 Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. 17365
15 Faraday shielding & Screening effect 18371
14 최적의 펌프는? 18554
13 MFC 19339
12 CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 19362
11 석영이 사용되는 이유? [1] 20057
10 CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] file 20404
9 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 21125
8 Peak RF Voltage의 의미 22635
7 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24651
6 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24787
5 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25595

Boards


XE Login