ESC 정전척 isolation 문의 입니다.
2013.08.29 16:00
안녕하세요
이번에 정전척부분을 설계하게 되었습니다.
정전척과 cooling plate는 연결되어 있고 그 조립품은 챔버와 isolation시켜야 한다는데 그 이유가 궁금합니다.
또 isolator는 얼마만큼의 두께로 선정해야 하는지 궁금합니다.
isolator의 재질은 ptfe를 사용하려고 합니다.
선정공식이나 선정 근거에 대한 도움부탁드립니다.
안녕히계세요.
댓글 1
-
김곤호
2013.09.13 12:14
기본적으로 정전척은 하나의 전극입니다. 반응기 (chamber) 벽면과 전극은 분명 전기적으로 떨어져야 전력을 인가할 수 있을 것입니다. 또한 절연재는 절연 파괴 전압을 고려하시면 되고 여기서 전압은 설계된 정전척에 인가되는 전압을 허용할 수 있어야 함을 참고하여 관련 재료의 전기적 특성에 대한 정보를 찾아 보세요. 여기서 절연파괴현상은 절연재(PTFE) 뿐만아니라 전극간에 형성된 전기장에서 플라즈마가 개시되는 현상도 절연파괴 전압 (pachen's law: 파션의 법칙)에 준해서 전극에 전력을 인가하게 됩니다. 이에 대해서는 본 난에서 소개한 바 있으니 이를 참고해 보시기 바랍니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77304 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20503 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57415 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68951 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92988 |
310 | Ar plasma power/time [1] | 1459 |
309 | MATCHER 발열 문제 [3] | 1456 |
308 | OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] | 1455 |
307 | PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] | 1455 |
306 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1453 |
305 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
![]() | 1447 |
304 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1445 |
303 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1443 |
302 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1443 |
301 | 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] | 1442 |
300 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1436 |
299 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1421 |
298 | Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] | 1414 |
297 |
dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!!
[1] ![]() | 1414 |
296 | 플라즈마 내에서의 현상 [1] | 1407 |
295 | Plasma Cleaning 관련 문의 [1] | 1403 |
294 | 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] | 1400 |
293 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1387 |
292 | CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] | 1380 |
291 | low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] | 1380 |