안녕하세요 반도체 장비회사에서 인턴으로 일하고있습니다.


pecvd장비를 이용해 ACL(amorphous carbon layer)을 올리는데 박막 stress를 줄여보고자 analog tuner를 chamber side bottom에 달았습니다.


여기서 궁금한 것은 analog tuner가 어떤 원리로 쓰여지는건지 궁금합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] 76895
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20286
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57205
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68758
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92718
159 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 727
158 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 724
157 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 722
156 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 720
155 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 715
154 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 714
153 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 710
152 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 709
151 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 699
150 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 695
149 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 690
148 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 686
147 Polymer Temp Etch [1] 678
146 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 675
145 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] 663
» analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 661
143 plasma 공정 중 색변화 [1] 646
142 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 645
141 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 637
140 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 633

Boards


XE Login