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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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346 |
Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문
[3] | 4015 |
345 |
HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다.
[1] | 4021 |
344 |
ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다
[2] | 4051 |
343 |
RPSC 관련 질문입니다.
[2] | 4089 |
342 |
SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문
[1] | 4181 |
341 |
RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성
[1] | 4256 |
340 |
Dry Etching Uniformity 개선 방법
[2] | 4340 |
339 |
플라즈마 색 관찰
[1] | 4354 |
338 |
ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
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337 |
챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다.
[3] | 4596 |
336 |
Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다.
[1] | 4878 |
335 |
매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~
[1] | 5129 |
334 |
RF power에 대한 설명 요청드립니다.
[1] | 5223 |
333 |
CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.
[1] | 5310 |
332 |
SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다.
[1] | 5455 |
331 |
DRAM과 NAND에칭 공정의 차이
[1] | 5509 |
330 |
ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다.
[1] | 5632 |
329 |
RF Vpp 관련하여 문의드립니다.
[1] | 5715 |
328 |
RF calibration에 대해 질문드립니다.
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327 |
OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다.
[1] | 5950 |
플라즈마는 이온화된 가스상태이다'라고 정의하는 분도 계십니다.