Plasma Source Plasma Generator 관련해서요.
2018.10.24 11:25
안녕하세요.
플라즈마 관련 직종에서 근무하고 있는 초보 직장인입니다.
한가지 질문 드릴게 있어서요,
Generator 하나를 사용하는데 Cable을 분기 시켜서
두개의 matching box로 가게 가능 할까요?
즉 Generator 하나를 사용하여 각각 다른 위치에 존재하는 Part를 클리닝 하고 싶어서요.
이게 실제 이론적으로 회로상으로 Relay를 줘서 분기 시켜서
어쩔때는 Mater1으로 가고, 어쩔때는 Matcher2로 가는게 가능할까요?
관련 내용을 찾다가 갑자기 궁금해서 질문 드립니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77307 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20505 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57415 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68953 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92989 |
210 | Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] | 919 |
209 | O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] | 916 |
» | Plasma Generator 관련해서요. [1] | 916 |
207 | 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] | 906 |
206 | RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] | 898 |
205 | Self bias 내용 질문입니다. [1] | 889 |
204 | 문의 드립니다. [1] | 886 |
203 | center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] | 873 |
202 | RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] | 873 |
201 | 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] | 868 |
200 | 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] | 868 |
199 | RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] | 860 |
198 | ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] | 859 |
197 | 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] | 858 |
196 | RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] | 855 |
195 | PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] | 851 |
194 | RF 파워서플라이 매칭 문제 | 849 |
193 | 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] | 836 |
192 | 라디컬의 재결합 방지 [1] | 832 |
191 | ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] | 830 |
가능하지 않을 이유가 없을 것 같습니다만, matcher 동작이 매우 어색할 것 같고, 공정 제어에 matcher의 성능은 매우 중요한 인자이므로 metcher 반응을 늦게 만드는 요인은 가능한 제거하는 것이 좋을 것 같습니다.