Plasma Source RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화.
2018.11.20 16:00
안녕하세요 저는 RF Plasma 관련 직종에 근무하는 직장인 입니다.
RF generator에서 Frequency tuning (주파수 가변) 기능을 사용하고 있는데, 주파수 변화에 따라서 Matcher에서 읽혀지는 Vrms 값이 심하게 변화하는것을 확인하였습니다.
Frequency 높아질수록 (13.56Mhz 기준) Vrms 높아짐 / Irms 큰변화 없음 / Phase 높아 지는데, 왜 Frequency 변화에 따라 Vrms와 Phase가 변하고, Irms는 큰 변화가 없는 것일까요?
주파수에 따른 Vrms, Irms, Phase의 연관성을 알수 있을까요.
조언 부탁드립니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77124 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20417 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57328 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68866 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92887 |
| 801 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 28 |
| 800 | Druyvesteyn Distribution | 32 |
| 799 | PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. | 42 |
| 798 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 46 |
| 797 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 48 |
| 796 | 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] | 48 |
| 795 | HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] | 55 |
| 794 | 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] | 59 |
| 793 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 69 |
| 792 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 77 |
| 791 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 78 |
| 790 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 88 |
| 789 | Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. | 92 |
| 788 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 98 |
| 787 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 98 |
| 786 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] | 103 |
| 785 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 109 |
| 784 | 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] | 114 |
| 783 | 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] | 116 |
| 782 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 129 |
지나가다 도움이 되실까 답변을 남깁니다.
임피던스 변환 공식은 1/jwc 또는 jwL 입니다. w가 f를 포함하므로 주파수에 따라 임피던스가 변하므로 Phase도 변합니다.
(인가된 Power가 같을 때) Irms가 같다는 의미는 임피던스의 실수 값은 변하지 않는 다는 뜻입니다.
임피던스의 실수값은 변하지 않고 허수값이 주파수 변화에 따라 변하므로 이에 상관된 Vrms는 따라 변화 합니다.