ICP Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여

2018.12.21 07:56

정용진 조회 수:1677

안녕하세요, dusty 플라즈마를 활용해서 나노소재를 만드는 연구를 하는 한 학생입니다.


플라즈마 electron density 를 증가하고자 CCP 에서 ICP 로 바꿔서 실험을 진행하고 있는데요,


Ar gas 만 흘럿을때는 매우 아름다운 ICP 효과를 얻을 수 있는데,

O2 gas 를 넣는 순간 ICP 효과가 사라집니다.


튜브 사이즈는 직경 2인치이고, power 는 200 W 정도 인가하였는데 

매칭박스의 매칭이 잘 되지는 않습니다. 


주로 CCP 만 사용하다가 ICP 를 사용하게 되어 매칭박스에 관해 지식이 짧은데,

혹시 ICP 를 사용할때는 이 모드에 맞게 매칭박스를 바꾸어야 하는지요?


감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77113
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20407
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57319
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68860
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92877
341 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1868
340 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1827
339 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1825
338 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1797
337 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1780
336 터보펌프 에러관련 [1] 1773
335 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1763
334 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1717
333 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1715
332 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1711
331 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1700
330 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1686
329 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1684
328 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1683
» Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1677
326 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1669
325 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1636
324 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1636
323 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1617
322 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1573
쓰기
태그

Boards

XE Login