안녕하세요.

반도체업계 종사자인 이우림이라고 합니다


다름이 아니라 300mm wafer위에 파티클 오염 분석을 진행중인데요.

혹시 300mm wafer를 coupon이 아닌 full wafer 상태로 삽입하여 wafer위의 파티클 성분 분석이 가능한 장비를 보유한 연구소를 알고 계신지요?

향후 분석에 꼭 필요한데 해당 장비 보유한 연구소를 찾지 못하는 상황입니다.

혹은 장비 관련 정보라도 알려주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] 77139
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20426
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57335
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68874
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92897
482 plasma 형성 관계 [1] 1566
481 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1571
480 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1576
479 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1617
478 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1637
477 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1640
476 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1674
475 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1677
474 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1683
473 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1684
472 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1688
471 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1702
470 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1711
469 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1717
468 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1718
467 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1768
466 터보펌프 에러관련 [1] 1773
465 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1780
464 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1801
463 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1827

Boards


XE Login