Remote Plasma remote plasma 데미지 질문 [DC glow discharge와 Breakdown]

2020.04.18 19:32

룰루랄라 조회 수:14999

안녕하세요 

 

반도체 공부하고 있는 학생입니다

 

반도체 관련 논문을 읽다 모르는 것이 있어 질문드립니다

remote plasma  경우 소스와 타겟 물질의 거리가 멀어 direct plasma 보다 플라즈마 데미지가 낮다고 하는데,

제가 알기로는 거리가 멀면 mean free path가 길어지고 플라즈마가 가속되어 에너지가 더 큰 것으로 알고 있습니다

그럼 충돌에너지가 커서 데미지가 더 커지는거 아닌가요..?

 

자세한 답변 부탁드립니다 감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [337] 109401
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 27005
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 64134
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 75913
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 109826
535 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1545
534 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [Plasma impedance와 Matcher] [2] 7070
533 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure] [1] 6834
532 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 1910
531 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma] [1] 2925
530 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath] [1] 2465
529 질문있습니다 교수님 [Deposition] [1] 22781
528 CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information] [1] 2403
527 KM 모델의 해석에 관한 질문 [Self bias와 ambipolar diffusion] [1] 782
» remote plasma 데미지 질문 [DC glow discharge와 Breakdown] [1] 14999
525 RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage] [3] 2445
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 2084
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [Bias power] [1] 8568
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD] [1] 1486
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [PMI] [2] 1502
520 Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor] [3] 4926
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문드립니다. [ECR과 uniformity] [1] 3178
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 18131
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1475
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset] [1] 4347
쓰기
태그

Boards

XE Login