Plasma in general O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure]

2020.05.28 12:04

김병진 조회 수:6737

안녕하세요. 저는 반도체 업종에서 근무하고 있습니다.

궁금한 점이 있어 질문드립니다.

Amorphous carbon 을 O2 분위기하에서 플라즈마 처리 할 경우 제거되는 지 궁금합니다.

또한 TIN 막을 H2 plasma 처리 할 경우 질소가 제거 된 TI가 되는 지 궁금합니다.

챔버 내 대기압 또는 진공상태가 위의 결과에 영향을 크게 미치는 지 궁금합니다.

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102010
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24523
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61172
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73214
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105411
» O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure] [1] 6737
532 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 1816
531 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma] [1] 2786
530 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath] [1] 2369
529 질문있습니다 교수님 [Deposition] [1] 22700
528 CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information] [1] 2271
527 KM 모델의 해석에 관한 질문 [Self bias와 ambipolar diffusion] [1] 723
526 remote plasma 데미지 질문 [DC glow discharge와 Breakdown] [1] 14925
525 RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage] [3] 2365
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1921
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [Bias power] [1] 8171
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD] [1] 1435
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [PMI] [2] 1460
520 Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor] [3] 4736
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문드립니다. [ECR과 uniformity] [1] 3004
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 18026
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1395
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [Self bias와 DC offset] [1] 4192
515 간단한 질문 몇개드립니다. [공정 drift와 database] [1] 799
514 matcher에서 load, tune의 역할이 궁금합니다. [Matcher와 impedance] [1] 12388
쓰기
태그

Boards

XE Login