Plasma in general Co-relation between RF Forward power and Vpp
2022.04.27 17:35
Hello,
I am working on a ALD (Atomic layer deposition) product wherein we are processing multiple wafers in the single reactor.
When we supply RF power to one of the reactor (i.e. REACTOR 1), the other reactor (REACTOR 2) beside reactor 1 is showing high Vpp value. We are not supplying RF power to reactor 2. (Please note reactor 1 & reactor 2 share the gas flow volume and are not fully isolated)
Why would this be happening ?
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 76978 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20332 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57254 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68801 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92795 |
680 | 플라즈마 진단법에 대하여 [1] | 20584 |
679 | 확산펌프 | 20525 |
678 | wafer 전하 소거: 경험 있습니다. | 20487 |
677 | RIE장비 에서 WALL 과 TOP 온도 | 20438 |
676 | Langmuir probe tip 재료 | 20413 |
675 | CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] | 20399 |
674 | 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] | 20314 |
673 | 플라즈마 matching | 20271 |
672 | 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [1] | 20264 |
671 | 형광등과 플라즈마 | 20256 |
670 | DBD플라즈마와 플라즈마 impedance | 20217 |
669 | Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. | 20211 |
668 | 플라즈마 진동수와 전자온도 | 20071 |
667 | 석영이 사용되는 이유? [1] | 20041 |
666 | CCP의 Vp가 ICP의 Vp보다 높은 이유 | 20019 |
665 | [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] | 19845 |
664 | 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] | 19791 |
663 | 상압플라즈마에서 온도와의 관계를 알고 싶습니다. | 19769 |
662 | PM을 한번 하시죠 | 19733 |
It seems to be an RF ground issue, and check it.