Shower head PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다.
2023.07.10 13:26
안녕하세요
항상 많은 도움 감사합니다.
PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다.
CCP TYPE CVD 공정의 경시성 현상에 관한 질문입니다.
일반적으로 경시성은 Shower Head 의 불균일한 Oxidation에 의해서 발생을 하게 되는데
Oxidation이 심하게 되는 부위에서 Oxide 막이 두껍게 형성되어,
Shower Head에서의 열이 방사율이 높아짐에 따라 산화가 많이 된 쪽이 Heat Loss가 더 커질 것으로 판단되는데요
일반적으로 Oxidation의 경우 Center 대비 Edge 쪽에서 많이 이뤄져서 Edge 쪽 방사율에 의해 Edge 막의 Temp가 더 낮을 것으로 예상했으나
실제 현상으로는 Center 쪽 막의 Temp가 더 낮은 현상이 일어납니다.
이론적인 부분과 실제 현상이 매칭이 잘 안되어서 혹시 원인이 무엇일지 궁금해서 의견 어떠신지 질문드립니다.
(Edge 영역으로 열전달이 많이 될 수 있는 매커니즘이 있는지 궁금합니다)
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77111 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20407 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57319 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68860 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92874 |
61 | Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] | 347 |
60 | Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 | 342 |
59 | 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] | 340 |
58 | RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] | 335 |
57 | RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] | 331 |
56 | Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] | 326 |
55 | E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] | 326 |
54 | 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] | 326 |
53 | 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] | 323 |
52 | RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] | 306 |
51 | 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] | 295 |
50 | RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] | 279 |
49 | Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] | 276 |
48 | gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] | 274 |
47 | 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] | 262 |
46 | GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] | 259 |
45 | Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] | 243 |
44 | Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] | 240 |
43 | Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] | 238 |
42 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 228 |
전극 표면의 온도 분포에 대해서는 시뮬레이션 결과들이 있을 것으로 예상됩니다.
일단 표면 온도 분포에 영향을 미치는 인자는 공간 상에 형성된 플라즈마 분포가 될 것 같습니다.
따라서 본 게시판에서 플라즈마 분포, 또는 플라즈마 확산의 주제어로 검색을 권장합니다.
제 생각에는 플라즈마 분포로 부터 생각을 정리해 가시면 좋을 것 같습니다.