Chamber component Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다.
2024.06.24 10:47
안녕하세요 한양대학교에서 연구중인 연구원입니다.
ALD 공정 진행중 plasma를 방전시키는 순간 갑자기 펌프가 꺼지면서 장비상에 Forward와 Reflect가 계속해서 잔여한다고 나오는 상태입니다.
Matcher와 연결된 수관의 온도가 일시적으로 높아져서 matcher에 이상이 생겨서 그럴 수 있을까요?
수관의 온도를 낮춘뒤에도 계속해서 Forward와 Reflect가 걸리고 있고 이 때문인지 펌프가 계속 켜지지 않고 있습니다.
사진과 같은 상황입니다.
감사합니다.
계속해서 잘 되다가 갑자기 이런 문제가 발생했고 공정 조건을 변경한 것은 없었습니다.
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급하실 것 같아 서둘러 답신 드립니다. 한양대학교 교내에 있는 플라즈마전자공학 연구실/나노과학기술 연구소에 문의해 보세요 RF 문제를 잘 다뤄주실 것 같습니다.