공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[279]
| 77111 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20407 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57319 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68860 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92874 |
761 |
플라즈마 온도
| 27832 |
760 |
DBD란
| 27766 |
759 |
플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항
| 27658 |
758 |
플라즈마 챔버 의 임피던스 관련
[2] | 27226 |
757 |
이온과 라디칼의 농도
| 27035 |
756 |
self bias (rf 전압 강하)
| 26762 |
755 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제...
[2] | 26504 |
754 |
OES 원리에 대해 궁금합니다!
[1] | 26252 |
753 |
dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
[3] | 26235 |
752 |
충돌단면적에 관하여
[2] | 26203 |
751 |
스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요?
| 25590 |
750 |
PECVD 매칭시 Reflect Power 증가
[2] | 24994 |
749 |
Reflrectance power가 너무 큽니다.
[1] | 24905 |
748 |
스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다..
| 24895 |
747 |
plasma와 arc의 차이는?
| 24799 |
746 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동
[1] | 24782 |
745 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24775 |
744 |
H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...
[1] | 24687 |
743 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
| 24637 |
742 |
플라즈마가 불안정한대요..
| 24530 |