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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Load position관련 질문 드립니다. [Impedance matching]
[1] | 3002 |
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574 |
Floride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [Sputter setup 및 구동 원리]
[1] | 810 |
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573 |
엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [나노광전자 데이터 분석]
[1] | 1648 |
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572 |
플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [나노 분말 생성 및 제어 연구]
[1] | 6649 |
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571 |
ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [ECRiS]
[2] | 1142 |
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Interlock 화면.mag overtemp의 의미
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플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기]
[1] | 1274 |
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연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술]
[1] | 1997 |
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O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
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566 |
ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [ESC, 쉬스 전기장 및 bias 전력 조절]
[1] | 6517 |
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565 |
연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어]
[1] | 1215 |
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564 |
압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건]
[1] | 2164 |
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플라즈마볼 제작시 [전기장 형성 및 플라즈마 방전]
[1] | 2798 |
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562 |
안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스]
[1] | 2954 |
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561 |
Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰]
[1] | 801 |
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560 |
Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링]
[2] | 3707 |
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559 |
좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도]
[2] | 17202 |
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알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터]
[1] | 1886 |
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557 |
교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode]
[2] | 2746 |
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556 |
Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground]
[2] | 1458 |
