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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [Sputtering 및 particle issue]
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Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과]
[1] | 1940 |
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313 |
RPSC 관련 질문입니다. [플라즈마 발생과 쉬스 형성, 벽면 및 시료 demage]
[2] | 5419 |
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312 |
안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [공정 용법]
[1] | 18898 |
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플라즈마 내에서의 현상 [Neo-classical transport theory]
[1] | 1648 |
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RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [High Power RFG]
[2] | 8153 |
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플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [Breakdown voltage 및 이온화 에너지]
[1] | 2369 |
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N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [쉬스 전위 및 플라즈마 세정]
[1] | 12591 |
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RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [플라즈마 유전상수]
[1] | 5006 |
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306 |
PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [글로우 방전 및 아크 방전]
[1] | 1233 |
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305 |
3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [Wave guide 및 matcher position 변화]
[1] | 2362 |
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304 |
Plasma 에칭 후 정전기 처리 [표면 전위 생성 및 방전]
[3] | 3441 |
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303 |
Dry Etching Uniformity 개선 방법 [장치 구조에 따른 공간 분포]
[2] | 5010 |
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302 |
micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [Wave guide 설계 및 matcher 설계]
[1] | 1638 |
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301 |
ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [Excitation transfer 반응과 방사천이율]
[1] | 2281 |
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300 |
다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [Radio-Frequency Plasma]
[1] | 2015 |
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DC스퍼터링과 RF 스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [플라즈마 생성과 Sputtering]
[2] | 4307 |
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298 |
M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [DC 글로우 방전 및 Breakdown]
[1] | 3620 |
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297 |
저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다.
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296 |
Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다.
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