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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[337]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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TMP에 대해 다시 질문 드립니다.
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196 |
터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요!
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[re] 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요!
| 20549 |
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Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술]
[1] | 24579 |
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193 |
플라즈마 측정기 [How Langmuir Probe Works]
[1] | 23660 |
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192 |
Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown]
[2] | 24034 |
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191 |
Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시]
[1] | 30938 |
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190 |
RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리]
[1] | 27086 |
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189 |
전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [전자 가열 매커니즘과 이온 에너지]
[1] | 21298 |
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188 |
궁금해서요
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187 |
PM을 한번 하시죠
| 20159 |
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186 |
CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [플라즈마 확산 및 전력정합 영역 제어]
[1]  | 22519 |
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185 |
Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [플라즈마 및 반응기 임피던스]
[1] | 25108 |
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184 |
scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [RF matching 및 반응 단면적]
[2] | 20963 |
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183 |
Full Face Erosion 관련 질문
[2] | 21143 |
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182 |
공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [공정 과정 및 장치 상태]
[2] | 28868 |
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181 |
상압 플라즈마 관련 문의입니다. [열용량과 방전 전력에 따른 냉각 장치]
[1] | 23702 |
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180 |
RF에 대하여...
| 33319 |
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179 |
Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제
| 25204 |
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178 |
PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [반사파 형성과 플라즈마 운전 조건]
[2] | 27281 |
