Sputtering UBM 스퍼터링 장비로...

2010.06.01 23:11

이재덕 조회 수:20924 추천:132

안녕 하십니까. UBM장비로 SUS 시편 두께에 따라 박막 두께도 달라지는지.. 달라지면 어떻게 달라지는지 Ti로 코팅하고 있는데 챔버를 열었을시 상온 과 챔버내 온도 차로 인하여 생기는 문제점들과 BIAS-DC ARC 장비로 챔버내에 하드 아킹이 일어나는 원인이 어떤것들이 있는지 알고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77193
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20457
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57356
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68897
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92938
225 H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. [2] 19448
224 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. file 30124
223 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. 17213
222 ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] 34970
221 질문 있습니다. [1] 18371
220 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22642
219 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25593
218 플라즈마 진단법에 대하여 [1] 20596
217 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [1] 20270
» UBM 스퍼터링 장비로... [1] 20924
215 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24913
214 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24646
213 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27234
212 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41291
211 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23430
210 석영이 사용되는 이유? [1] 20056
209 surface wave plasma 에 대해서 [1] 18562
208 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23280
207 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 21125
206 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23790

Boards


XE Login