Others Microwave 장비 관련 질문
2013.08.20 16:19
안녕하세요 현재 반도체 관련 회사에 재직중인 직장인 입니다.
현재 저희 회사에서 Microwave 장비(Generator, RPS)에 관련 하여 시장 및 현 상황에 대한 조사를 하고 있습니다.
반도체 공정 (CVD,Etch,LCD) 쪽으로의 어느정도의 수요는 확인 되었지만 Microwave 를 사용한 Plasma 발생 하는 장비의 수가 (RF대비) 상대적으로 적은것으로 조사가 되었습니다.
제 짧은 지식으로는 공정의 Concept 가 중요하겠지만, Impedance matching 문제, 도파관 사용에 의한 설치문제, 그리고 2.45Ghz 라는 주파수의 Radical 적인 문제로 사용하는 수가 적은것으로 생각됩니다.
제 짧은 생각이 맞는지 궁금합니다. 그리고 반도체 공정 뿐만 아닌 다른 분야에서도 현재 사용되는 곳이 있는지 궁금합니다.
황당한 질문일수도 있겠지만 답변 부탁드립니다^^
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 76980 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20332 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57254 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68801 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92795 |
521 | 에칭후 particle에서 발생하는 현상 | 9544 |
520 | Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] | 9536 |
519 | 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 | 9267 |
518 | 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] | 9261 |
517 | 안녕하세요 교수님. [1] | 9047 |
516 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 9009 |
515 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8935 |
514 | 수중플라즈마에 대해 [1] | 8763 |
513 | ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] | 8750 |
512 | Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. | 8734 |
511 | Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] | 8624 |
510 | N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다. [1] | 8622 |
509 | RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] | 8610 |
» | Microwave 장비 관련 질문 [1] | 8585 |
507 | Lecture를 들을 수 없나요? [1] | 8582 |
506 | 핵융합에 대하여 | 8564 |
505 | 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] | 8149 |
504 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8128 |
503 | 고온 플라즈마 관련 | 8090 |
502 | 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] | 8062 |