Plasma in general RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다
2018.12.30 00:05
안녕하세요. 반도체 회사에서 근무하고 있는 엔지니어 입니다.
최근 설비이슈로 rf tune position 상승의 문제가 있는데 load는 변동이 없는데 유독 tune position만 상승합니다. 이때 Vrms는 tune과 반비례로 하강하는 trend를 보이는데,
1. tune과 Vrms 의 상관관계가 어떻게 되나요?
2. 유독 tune이 상승하는 원인을 어디서부터 찾아야 할까요?
바쁘신 와중에 항상 도움을 주셔서 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 77055 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20376 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57288 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68833 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92833 |
797 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 144759 |
796 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134457 |
795 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95806 |
794 | Plasma source type | 79714 |
793 | Silent Discharge | 64561 |
792 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54979 |
791 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47947 |
790 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43712 |
789 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41282 |
788 | 대기압 플라즈마 | 40718 |
787 | Ground에 대하여 | 39497 |
786 | RF frequency와 RF power 구분 | 39100 |
785 | Self Bias | 36392 |
784 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35975 |
783 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34966 |
782 | PEALD관련 질문 [1] | 32652 |