Sheath 교수님 질문이 있습니다.
2019.07.01 18:46
안녕하세요 교수님 , 저는 최근들어 반도체공정관련해서 공부중인 지나가던(?) 기계공학과 학생입니다 !
다름이 아니라 , 플라즈마 sheath에 대해 찾아보니까 약간 개념적으로 정확하게 잘 정립이 안되서 이곳저곳 찾다가 이곳을 알게되어
이렇게 질문을하게 되었습니다.
플라즈마 sheath는 제가 찾아본바에 의하면 , 전자는 양이온보다 속도가 빨라서 chamber벽 같은곳에 흡수가 잘되어서 결국 소실되는게 많아
상대적으로 양이온,중성자만 많게된 곳을 sheath라고 알고있습니다. 그런데 , sheath 층은 얇을수록 플라즈마 bulk( 플라즈마 sheath가 아닌영역)안에 있는 양이온이 이동하기가 쉬워서 결국 wafer를 양이온으로 dry etch하는게 더 쉽다는데,
1.왜 sheath층이 얇을수록 양이온이 더 이동하기 쉬운지 알고싶습니다.
2. 그리고 sheath층을 줄이려면 어떤방법들이 있을까요?? ex> (답은아니겠지만...) 가해주는 전압을 줄인다. 등등 간단한식으로 말씀해주셔도 전혀 상관없습니다 !!
감사합니다 교수님 !!
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 76982 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20333 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57256 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68802 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92799 |
» | 교수님 질문이 있습니다. [1] | 768 |
480 | wafer bias [1] | 1142 |
479 | Group Delay 문의드립니다. [1] | 1152 |
478 | Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] | 519 |
477 | RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] | 2039 |
476 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1051 |
475 | 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] | 1980 |
474 | PEALD관련 질문 [1] | 32652 |
473 | N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] | 2291 |
472 | dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] | 3584 |
471 | Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] | 1083 |
470 | 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] | 732 |
469 | ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] | 4011 |
468 | VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] | 428 |
467 | 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] | 2365 |
466 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1168 |
465 | Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] | 1359 |
464 | 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] | 960 |
463 | 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] | 2032 |
462 | plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] | 2440 |