DC glow discharge 플라즈마 관련 기초지식
2019.09.16 00:41
안녕하십니까 플라즈마 입문단계를 공부하고 있는 전기공학과 학생입니다.
다름이 아니라 공부를 하는 중에 플라즈마 소스 부분에 직류 글로우 방전에서 r-process 부분에서 2차 방출이 일어나는데
여기서 이차전자가 이온화를 잘시키는 것으로 알고 있습니다. 하지만 이온은 그에 비해 잘 시키지 못한것 같습니다
정리하자면 플라즈마에서 이온은 전자에 비해 중성종을 이온화시키기 어려운 이유가 무엇일까요?
기본적인 내용인데 많이 부족해서 모르겠습니다.
부탁드립니다!! 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77301 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20500 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57414 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68949 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92988 |
510 | 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] | 1438 |
509 | 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] | 1441 |
508 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1443 |
507 | O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] | 1445 |
506 |
poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.
![]() | 1446 |
505 | Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] | 1452 |
504 | OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] | 1454 |
503 | PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] | 1455 |
502 | MATCHER 발열 문제 [3] | 1456 |
501 | Ar plasma power/time [1] | 1459 |
500 | 강의를 들을 수 없는건가요? [2] | 1466 |
499 | Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] | 1466 |
498 | ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 | 1474 |
497 | 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] | 1478 |
496 | rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] | 1478 |
495 | RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. | 1487 |
494 | Impedence 위상관련 문의.. [1] | 1489 |
493 | 알고싶습니다 [1] | 1494 |
492 | charge effect에 대해 [2] | 1520 |
491 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 1523 |