안녕하십니까 김곤호 교수님

ESC를 공부하다가 어려운 내용이 있어서 이렇게 글을 올려봅니다.

전극 형태만 다르고 모두 같은 조건의 ESC중에 (interdigital 형식 전극과  Capacitor 형식의 전극이 큰 전극)

Chucking Force가 어떤 것이 높은지 궁굼합니다.

또 이 두가지의 장단점을 조금만 설명해 주시면 큰 도움이 될 것 같습니다.

대략적인 사진 첨부 드립니다. 컨펌 부탁드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] 77160
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20441
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57344
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68884
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92918
581 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1403
580 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 893
579 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1142
578 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 405
577 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [1] 28590
576 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1404
575 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2467
574 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 470
573 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1134
572 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6420
571 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 825
570 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 593
569 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 974
568 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1530
567 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1180
566 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5621
565 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 861
564 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1717
563 플라즈마볼 제작시 [1] file 2265

Boards


XE Login