안녕하십니까 교수님. 반도체 장비회사에서 공정개발 직무를 담당하고 있는 엔지니어 입니다.

 

다름이 아니라 플라즈마 식각기술 책을 읽는 와중에 궁금한 점이 생겨 이렇게 질문을 남깁니다.

 

책에서 접지된 전극에 기판을 놓을 경우 Radical에 의한 반응이 반응성 이온의 영향보다 크게 되고,

고주파 전극에 기판을 놓게 되면 반대로 되어 이방성이 커진다고 하는데 

 

집지된 전극에 기판을 놓을 경우 왜 Radical 반응이 주가 되는 건가요?

접지라는 것이 이 구조에서 어떻게 영향을 끼치는 것인지 궁금합니다.

 

항상 많이 배우고 있습니다.

감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77007
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20345
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57268
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68812
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92811
801 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 22
800 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 23
799 Druyvesteyn Distribution 25
798 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 26
797 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 35
796 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 38
795 플라즈마 식각 커스핑 식각량 42
794 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 44
793 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 68
792 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 77
791 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 77
790 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 82
789 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 84
788 플라즈마 설비에 대한 질문 84
787 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 90
786 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 96
785 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 103
784 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 104
783 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 105
782 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 128

Boards


XE Login