Etch Plasma 식각 test 관련 문의

2021.12.13 16:57

벅바 조회 수:3980

안녕하세요.

 

플라즈마 식각 중량변화 테스트를 O2가스와 NF3,AR(3:1) 비중으로 60분동안 200W전력 조건으로 

 

제품은 불소고무 O-RING 입니다.

 

할 수 있는곳이 있을까요?? 

 

도움 부탁드리겠습니다..

 

, , , , 이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77104
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20405
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57315
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68855
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92870
361 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 2007
360 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 2004
359 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1999
358 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1988
357 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1984
356 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1979
355 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1969
354 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1962
353 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1956
352 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1940
351 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1932
350 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1926
349 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1923
348 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1912
347 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1910
346 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1903
345 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1882
344 가입인사드립니다. [1] 1880
343 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1876
342 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1871
쓰기
태그

Boards

XE Login