Remote Plasma PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활
2023.03.02 15:45
기초적인 질문인데요
PECVD 장비에서 Cleaning을 할때 보통 Remote plasma NF3 + Ar Gas를 사용하는데요
Ar Gas의 정확한 역할을 알고 싶습니다.
Purge나 Carrier 용도라면 N2나 O2도 사용가능한데 굳이 Ar을 사용하는 다른 목적이 있는건지 궁금합니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] | 77304 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20503 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57415 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68951 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92988 |
550 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13216 |
549 | 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] | 13083 |
548 | [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] | 12826 |
547 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12820 |
546 | ICP와 CCP의 차이 [3] | 12604 |
545 | 플라즈마에 대해서 꼭알고 싶은거 있는데요.. | 12377 |
544 | Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] | 11749 |
543 | N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] | 11620 |
542 | 플라즈마 살균 방식 [2] | 11522 |
541 | DC bias (Self bias) [3] | 11372 |
540 | matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] | 10651 |
539 | RGA에 대해서 | 10560 |
538 | Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] | 10410 |
537 | 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] | 10405 |
536 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10340 |
535 | 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] | 10052 |
534 | ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] | 9921 |
533 | 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. | 9849 |
532 | 수중 방전 관련 질문입니다. [1] | 9689 |
531 | 대기압 플라즈마에 대해서 | 9662 |