안녕하세요

 

항상 많은 도움 감사합니다.

 

PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다.

 

CCP TYPE CVD 공정의 경시성 현상에 관한 질문입니다.

 

일반적으로 경시성은 Shower Head 의 불균일한 Oxidation에 의해서 발생을 하게 되는데

Oxidation이 심하게 되는 부위에서 Oxide 막이 두껍게 형성되어,

Shower Head에서의 열이 방사율이 높아짐에 따라 산화가 많이 된 쪽이 Heat Loss가 더 커질 것으로 판단되는데요

 

일반적으로 Oxidation의 경우 Center 대비 Edge 쪽에서 많이 이뤄져서 Edge 쪽 방사율에 의해 Edge 막의 Temp가 더 낮을 것으로 예상했으나

실제 현상으로는 Center 쪽 막의 Temp가 더 낮은 현상이 일어납니다.

 

이론적인 부분과 실제 현상이 매칭이 잘 안되어서 혹시 원인이 무엇일지 궁금해서 의견 어떠신지 질문드립니다.

(Edge 영역으로 열전달이 많이 될 수 있는 매커니즘이 있는지 궁금합니다)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77061
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20379
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57290
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68836
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92838
741 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24397
740 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24372
739 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24200
738 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24126
737 self Bias voltage 24106
736 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23994
735 플라즈마 쉬스 23974
734 Arcing 23861
733 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23781
732 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23467
731 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23420
730 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23348
729 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23278
728 DC glow discharge 23270
727 고온플라즈마와 저온플라즈마 23161
726 No. of antenna coil turns for ICP 23125
725 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23107
724 CCP/ICP , E/H mode 23081
723 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22953
722 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22860

Boards


XE Login