Etch RIE Gas 질문 하나 드려도될까요?

2023.08.30 08:55

윤성 조회 수:345

RIE(13.56Mhz) 설비 SET UP 도중 압력 0.2 Torr Gas SF6 30 Sccm 공정 조건에서 Matcher가 Matching position 을 잡지 못하고 흔들리는 현상으로 Matcher circuit에 Low pass filter 장착 후 그 현상이 사라 졌습니다.

위에 현상에 대한 정보가 부족 하지만 답변 주셔서 감사합니다.

 

특이사항이 CF4, Ar Gas 에서는 위에 현상이 나타나지않으며 SF6 가스에만 위에 현상이 나타나는건 Gas의 특성이라고 보면될까요? 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [284] 77278
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20485
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57401
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68923
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92983
748 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 337
747 Plasma 장비 소재 특성 관련하여 문의드립니다. [1] 338
746 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 343
» RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 345
744 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 346
743 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 352
742 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 370
741 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 378
740 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] 379
739 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 380
738 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 381
737 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 382
736 chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의 [1] 383
735 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 385
734 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 397
733 plasma modeling 관련 질문 [1] 397
732 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 406
731 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 408
730 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 416
729 애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다. [1] 422

Boards


XE Login