|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[322]
| 87363 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 22736 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 59436 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 71231 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 98711 |
|
568 |
연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술]
[1] | 1789 |
|
567 |
O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의
 | 1298 |
|
566 |
ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [ESC, 쉬스 전기장 및 bias 전력 조절]
[1] | 6008 |
|
565 |
연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어]
[1] | 1042 |
|
564 |
압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건]
[1] | 1918 |
|
563 |
플라즈마볼 제작시 [전기장 형성 및 플라즈마 방전]
[1] | 2483 |
|
562 |
안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스]
[1] | 2769 |
|
561 |
Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰]
[1] | 673 |
|
560 |
Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링]
[2] | 3504 |
|
559 |
좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도]
[2] | 16864 |
|
558 |
알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터]
[1] | 1709 |
|
557 |
교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode]
[2] | 2581 |
|
556 |
Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground]
[2] | 1228 |
|
555 |
안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지]
[2] | 952 |
|
554 |
Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [웨이퍼 근방 쉬스 특성, Edge ring]
[2] | 3073 |
|
553 |
접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경]
[1] | 1564 |
|
552 |
안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수]
[2] | 2660 |
|
551 |
접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경]
[1] | 844 |
|
550 |
전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending]
[1] | 1795 |
|
549 |
챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [Arc 형성 조건]
[3] | 5313 |
