ESC dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐
2010.05.18 11:04
ESC 관련회사에 다니는 김기권입니다.
LCD 공정에서 각 단계별 과정을 거친 후 dechucking시 Glass가 ESC(Electrostatic Chuck)로부터 방전되지 못하고, 잔류되어 있는 극성을 띤 전하(Electric charge)들에 의해 Glass 와 ESC 사이에 인력이 발생하여 Glass broken 문제가 발생했습니다. ESC 는 6개월 정도 사용중이었고 고객사에서는 ESC 에 문제로 추정하고 있습니다. Glass broken 문제에 관하여 ESC 의 문제로만 볼수있는지... 아님 Etcher 장비에도 문제가 있을수 있는지 궁금합니다.
댓글 3
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [281] | 77177 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20452 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57350 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68888 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92926 |
804 |
CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다.
![]() | 1 |
803 |
Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다
[1] ![]() | 7 |
802 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 31 |
801 | Druyvesteyn Distribution | 38 |
800 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 48 |
799 | 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] | 53 |
798 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 54 |
797 | PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. | 56 |
796 | ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] | 56 |
795 | 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] | 67 |
794 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 72 |
793 | HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] | 75 |
792 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 81 |
791 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 81 |
790 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 88 |
789 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 100 |
788 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 102 |
787 | Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. | 106 |
786 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 112 |
785 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] | 112 |