ESC dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐

2010.05.18 11:04

김기구너 조회 수:26282 추천:215

ESC 관련회사에 다니는 김기권입니다.
LCD 공정에서 각 단계별 과정을 거친 후 dechucking시 Glass가 ESC(Electrostatic Chuck)로부터 방전되지 못하고, 잔류되어 있는 극성을 띤 전하(Electric charge)들에 의해 Glass 와 ESC 사이에 인력이 발생하여  Glass broken  문제가 발생했습니다. ESC 는 6개월 정도 사용중이었고 고객사에서는 ESC 에 문제로 추정하고 있습니다. Glass broken 문제에 관하여 ESC 의 문제로만 볼수있는지... 아님 Etcher 장비에도 문제가 있을수 있는지 궁금합니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [286] 77303
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20501
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57414
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68950
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92988
230 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1030
229 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] file 1030
228 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 1029
227 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1028
226 고진공 만드는방법. [1] 1021
225 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 1019
224 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 1011
223 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 1003
222 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 990
221 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 989
220 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 989
219 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 977
218 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 975
217 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 969
216 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 947
215 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 947
214 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] 945
213 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 939
212 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 921
211 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 919
쓰기
태그

Boards

XE Login