Remote Plasma surface wave plasma 에 대해서
2010.04.10 19:26
안녕하세요.. 저는 이태효라고 합니다.
플라즈마에 대해서 이것저것 공부하던 중에 high density plasma 방법중에 마이크로 웨이브를 이용한 방법이 있는 것을 보았습니다.
보통 CCP나 ICP 또는 Helicon plasma 그리고 ECR에 대해서는 어느정도 방법이 나와있지만 마이크로파를 이용한 surface wave plasma에 대해서는 자료가 거의 없더군요....
해서 게시판에 매번 눈팅만 하다가 질문을 올리게 됐습니다.
1. 첫째로 마이크로파를 이용한 플라즈마 방식이 있는데 이것에 대한 플라즈마를 발생시키는 원리에 대해서 알고 싶습니다.
- 플라즈마 일렉트로닉스란 책도 참고로 보았지만 잘 이해가 안가네요...;;;;
2. 두번째로 마이크로파를 이용한 플라즈마 방식은 전자온도가 낮다고 들었는데요... 이유가 어떤건지도 궁금합니다.
- ECR 도 마이크로 웨이브를 이용하는데 이건 일반적인 ICP보다 전자온도가 높은것으로 알고 있는데요.. SWP에 대한 원리를 몰라서 그런지 왜 전자온도가 낮은지 아무리 생각해도 잘 모르겠네요.
매번 게시판을 잘 이용하고 있고 많은 도움을 받고 있습니다.
그럼 하시는 연구 잘되기를 바라구요... 답변 부탁드립니다. 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] | 77243 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20469 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57374 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68904 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92952 |
226 | 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] | 16055 |
225 | H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. [2] | 19450 |
224 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. | 30135 |
223 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. | 17213 |
222 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34972 |
221 | 질문 있습니다. [1] | 18371 |
220 | pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] | 22643 |
219 | 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? | 25596 |
218 | 플라즈마 진단법에 대하여 [1] | 20601 |
217 | 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [1] | 20271 |
216 | UBM 스퍼터링 장비로... [1] | 20926 |
215 | Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] | 24916 |
214 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 24655 |
213 | 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] | 27237 |
212 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41300 |
211 | 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? | 23434 |
210 | 석영이 사용되는 이유? [1] | 20060 |
» | surface wave plasma 에 대해서 [1] | 18564 |
208 | CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. | 23282 |
207 | 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] | 21126 |