안녕하세요.

 

큐에스아이라는 회사의 coating field를 담당하는 우병화 사원이라고 합니다.

 

현재 자사 ECR sputter에서 석영 parts 를 세정하여 재사용하고 있습니다.

 

그런데 세정 후에 장착하면 원하는 target(al2o3)의 반사율과 굴절율의 특성 이상이 보이는 현상이 있습니다.

 

세정 잘못으로 인한 반사울 굴절율 값이 상이해는지 경우가 있는지 문의 드립니다.

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77014
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20347
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57269
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68814
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92813
238 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24772
237 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22704
» [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19846
235 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [1] 20314
234 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31691
233 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24370
232 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23348
231 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22952
230 대기압 플라즈마 40717
229 반도체 관련 질문입니다. 28580
228 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47944
227 Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다. 20212
226 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] 16046
225 H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. [2] 19441
224 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. file 30094
223 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. 17205
222 ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] 34966

Boards


XE Login