Sputtering 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [플라즈마트 및 휘팅커 회사]

2012.04.01 11:51

처리 조회 수:10677

ICP chamber 방식이며 Generator는 13.56MHz, 1.5kw두개를 사용할경우

matcher제작 or 분석을 하려는데 국내, 일본 회사에서는 불가능 할것 같다고 합니다.

미국의 AE, MKS를 제외하고 RF matcher나 Generator 방면에서 기술력을 갖고 있는

회사가 있을까요?

혹시 알고 계신곳이 있으면 가르쳐 주시면 감사하겠습니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102176
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24564
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61218
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73297
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105519
250 안녕하세요, 질문드립니다. [플라즈마 토치와 환경처리] [2] 6768
249 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [RRC 연구센터 문의] [1] 7959
» 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [플라즈마트 및 휘팅커 회사] [1] 10677
247 플라즈마 발생 억제 문의 [Induction field와 breakdown] [1] 8295
246 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [ICP의 skin depth와 공정 균일도] [1] 24868
245 Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? 15989
244 Ar traction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [Chamber wall과 radical reaction] [1] 16100
243 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [Remote plasma의 Radical] [1] 23327
242 cross section 질문 [Cross section에서의 collision] [1] 20054
241 [Sputter Forward,Reflect Power] [Sputter와 matching] [1] 31632
240 RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [Power와 Gas ionization] [1] 18280
239 ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown] [2] 21489
238 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [ICP Matching과 Circuit model] [1] 25212
237 [질문] Plasma density 측정 방법 [Plasma property와 sputtering] [1] 22948
236 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [Plasma 대면재료와 공정법] [1] 20028
235 상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [Electric field와 breakdown] [1] 20500
234 RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. 31920
쓰기
태그

Boards

XE Login