Others 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제
2012.11.09 20:21
30 kW급 공동형 (양 극 모두 구리) 플라즈마 토치를 운전하는데, 음극에서 구리 소모가 상당히 심하네요. 원래 음압에서 운전하도록 설계된 토치인데, 저희는 약간의 양압 상태에서 운전하고 있습니다. 0.2 bar정도...
플라즈마 소스는 알곤가스를 사용합니다. 냉각은 13도로 들어가서 15도 정도로 나오니... 잘 되는 것 같은데.... 구리가 많이 나오네요.
이런 경우는 어떤 대처가 필요할 까요? 궁금합니다.
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] | 77243 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20470 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57374 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68904 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92953 |
802 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 145547 |
801 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134463 |
800 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95857 |
799 | Plasma source type | 79730 |
798 | Silent Discharge | 64562 |
797 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 55007 |
796 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47987 |
795 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43716 |
794 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41300 |
793 | 대기압 플라즈마 | 40726 |
792 | Ground에 대하여 | 39522 |
791 | RF frequency와 RF power 구분 | 39116 |
790 | Self Bias | 36403 |
789 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35990 |
788 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34972 |
787 | PEALD관련 질문 [1] | 32657 |