안녕하세요 직장에서 플라즈마를 사용하는 일반 사원입니다.

챔버내에서 Shower Head와 기판사이에서 기판과 가까운(솟아나온부분) 곳에서 생기는 박막형에 비해 기판과 먼(옆 테두리들어간 부분)곳에 생기는 부산물들이 기존의 박막층보다 엉성하고 입자가 큰 경우 기존의 받아들이던 플라즈마 값에서 변화가 일어나는데 이러한 점을 줄일 수 있는 방법이나 이론을 알고싶어 글 남깁니다. 또한 실제로 이 부산물들이 플라즈마에 어떤 영향을 미치는지 알고싶습니다.semiconductor shower head에 대한 이미지 검색결과

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [292] 77372
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20517
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57435
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68981
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93004
372 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3294
371 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3352
370 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3352
369 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3371
368 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3414
367 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3455
366 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3472
365 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3508
364 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3515
363 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3530
362 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3568
361 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3580
360 ESC Cooling gas 관련 [1] 3602
359 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3631
358 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3634
357 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3663
356 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3723
355 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3736
354 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3776
353 Descum 관련 문의 사항. [1] 3816

Boards


XE Login