CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
2020.01.02 18:46
안녕하십니까?
이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.
그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,
그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.
에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.
(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)
확인 및 답변 부탁드립니다.
새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.
감사합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] | 76897 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20286 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57205 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68759 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92719 |
| 799 | 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] | 15 |
| 798 | 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] | 16 |
| 797 | C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 | 17 |
| 796 | Druyvesteyn Distribution | 24 |
| 795 | DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] | 31 |
| 794 | 플라즈마 식각 커스핑 식각량 | 35 |
| 793 | Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. | 62 |
| 792 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 65 |
| 791 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 71 |
| 790 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 74 |
| 789 | 플라즈마 설비에 대한 질문 | 76 |
| 788 | Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] | 78 |
| 787 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 82 |
| 786 | 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] | 84 |
| 785 | 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] | 90 |
| 784 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 95 |
| 783 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 98 |
| 782 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 121 |
| 781 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 124 |
| 780 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 125 |