CCP Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance
2020.04.06 11:29
안녕하세요,
반도체 회사에서 CVD 장비 업무를 맡고 있는 이윤재입니다.
업무 중 CCP Type Chamber에 Warpage 심화 Wafer가 투입되었을 때,
Impedance I 가 Drop 되는 현상이 있었습니다.
이 때 이 원인을 파악하려고 하는데, 논문이나 과거 자료를 봐도 나오지가 않아서
질문을 드립니다..
Q. Warpage 심화 Wafer가 상대적으로 Flat한 Wafer 보다 Impedance Drop이 되는 원인은,
Edge 쪽 ( Wafer와 Heater가 Contact 되지 않음) 이 문제가 되는 것으로 추정되는데
정확한 원인이 무엇인지 궁금합니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [280] | 77155 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20433 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57340 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68884 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92907 |
562 | Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? | 15893 |
561 | Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [1] | 15813 |
560 | Plasma potential이.. 음수가 될수 있나요?.. | 15693 |
559 | PMMA(폴리메틸메타크릴레이트)의 표면개질에 관해 [1] | 15653 |
558 | 플라즈마와 비행기에 미쳤거든여....^ _ ^ ; | 15634 |
557 | 핵융합반응/플라즈마 | 15538 |
556 | In-flight plasma process | 15508 |
555 | 우주 플라즈마 | 15361 |
554 | 박막 형성 | 15301 |
553 | 산업용 플라즈마의 특성 | 15168 |
552 | 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 | 15059 |
551 | ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] | 14895 |
550 | 우주 플라즈마 | 14787 |
549 | 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 | 14740 |
548 | laser induced plasma의 측정에 관하여 | 14734 |
547 | 우주에서의 플라즈마의 성분비 | 14589 |
546 | remote plasma 데미지 질문 [1] | 14498 |
545 | 냉각수에 의한 Power Leak | 14450 |
544 | 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [1] | 14147 |
543 | 플라즈마의 상태 | 14084 |