Etch Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다.
2020.06.12 10:42
안녕하십니까 RF Power 공급 업체에 다니고 있는 직장인 입니다.
한가지 궁금한 점이 있어서 질문 올립니다.
현재 장비사에서 다른 Power 업체에서 사용하던 것을 저희 업체로 변경 하여 사용했는데
공정 결과 ER이 20% 낮게 나왔다고 합니다.
공정 시 같은 Power, 같은 ICP설비 안테나로 진행 하였으며 RF Matcher와 RF Generator의 Maker만 바뀐 상황입니다.
이와 관련하여 혹시 Matcher가 ER을 낮게 할 수 있는 원인이 될 수 있는지 여부가 궁금합니다.
혹시 관련된 자료 있으면 링크좀 부탁드리겠습니다.
감사합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [278] | 76895 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20286 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57205 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68758 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92718 |
| 539 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13207 |
| 538 | 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] | 13066 |
| 537 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12813 |
| 536 | [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] | 12772 |
| 535 | ICP와 CCP의 차이 [3] | 12538 |
| 534 | 플라즈마에 대해서 꼭알고 싶은거 있는데요.. | 12364 |
| 533 | Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] | 11501 |
| 532 | 플라즈마 살균 방식 [2] | 11492 |
| 531 | N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] | 11491 |
| 530 | DC bias (Self bias) [3] | 11309 |
| 529 | RGA에 대해서 | 10551 |
| 528 | matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] | 10466 |
| 527 | 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] | 10386 |
| 526 | Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] | 10380 |
| 525 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10322 |
| 524 | 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] | 10024 |
| 523 | ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] | 9884 |
| 522 | 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. | 9845 |
| 521 | 수중 방전 관련 질문입니다. [1] | 9675 |
| 520 | 대기압 플라즈마에 대해서 | 9643 |