ESC 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다.

2020.08.12 09:14

김한솔 조회 수:1622

안녕하십니까 김곤호 교수님

ESC를 공부하다가 어려운 내용이 있어서 이렇게 글을 올려봅니다.

전극 형태만 다르고 모두 같은 조건의 ESC중에 (interdigital 형식 전극과  Capacitor 형식의 전극이 큰 전극)

Chucking Force가 어떤 것이 높은지 궁굼합니다.

또 이 두가지의 장단점을 조금만 설명해 주시면 큰 도움이 될 것 같습니다.

대략적인 사진 첨부 드립니다. 컨펌 부탁드리겠습니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77193
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20457
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57356
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68897
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92938
505 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1442
504 MATCHER 발열 문제 [3] 1446
503 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1449
502 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1450
501 Ar plasma power/time [1] 1455
500 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1460
499 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1463
498 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1463
497 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1472
496 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1473
495 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1480
494 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1483
493 알고싶습니다 [1] 1483
492 charge effect에 대해 [2] 1499
491 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1503
490 ICP lower power 와 RF bias [1] 1503
489 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1505
488 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1517
487 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1535
486 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1544
쓰기
태그

Boards

XE Login