안녕하십니까, 교수님
저는 국내 디스플레이 장비 업체에서 근무 중인 직장인 김준현이라고 합니다.
항상 좋은 답변 해주셔서 업무 진행에 있어 많은 도움을 받고 있습니다.

 

최근 arcing 관련 내용을 공부 중에 있는데요, 궁금한 점이 생겨 이렇게 문의드리게 되었습니다.

 

질문들은 하기와 같습니다. 

 

1. arcing 발생 방지에 있어, ground가 중요한 이유가 무엇인가요...?

 

2. 벽표면 혹은 전극 표면 등에 쌓인 부도체 물질, particle 등이 acring 발생에 어떤 영향을 주는지 그 메카니즘에 관해 알고 싶습니다.    

 

3. 특정 조건에서 기판 지지체 하부에 잔류 플라즈마 발생을 확인할 수 있었는데요, 기판지지체 하부에는 RF Power가 직접적으로 가해지지 않는데 왜 플라즈마가 유지/생성될 수 있는지 궁금합니다. 

 

이상입니다.

 

감사합니다.
 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [330] 102006
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24518
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 61169
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 73210
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 105405
592 low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전] [1] 1720
591 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [회로인자 및 구동기구, 플라즈마 특성] [1] 6484
590 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [Maxwallian EEDF] [2] 3718
589 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [DC glow discharge] [1] 1166
588 플라즈마 에칭과 표면처리의 차이점 질문드립니다. [Cleaning, sputter etching, RIE] [1] 2390
587 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [충돌 반응 rate constant] [4] 5201
586 플라즈마 챔버 [화학반응 및 내열조건] [2] 1660
585 Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동] [1] 1394
584 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [플라즈마 주파수와 Vpp, sheath] [1] 4341
583 플라즈마 용어 질문드립니다. [Self bias] [1] 1071
582 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 1971
581 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1867
580 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1235
579 RF 반사파와 이물과의 관계 [Physical/chemical cleaning] [1] 1441
578 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [플라즈마 확산] [1] 578
577 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [Mean free path] [1] 29483
» Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1863
575 Load position관련 질문 드립니다. [Impedance matching] [1] 2879
574 Floride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [Sputter setup 및 구동 원리] [1] 729

Boards


XE Login