Plasma in general Decoupled Plasma 관련 질문입니다.
2021.03.15 06:56
안녕하세요, 현재 반도체 회사에서 근무 중입니다.
관리하는 설비 중 Decoupled Plasma를 사용하는 설비가 있습니다.
ICP Type의 설비이고 ESC Chuck은 사용하지않습니다.
pulsed rf power를 사용하는 설비인데, 여기서 decoupled plasma의 개념에 대해 궁금해서 질문남깁니다.
질문) Decoupled Plasma는 ion density와 ion energy를 분리한다는 의미인데 rf power의 상승에 따라 ion density는 상승하지만 ion energy는 낮은 상태를 유지하는 Mechanism이 궁금합니다.
항상 많이 배우고 있습니다.
감사합니다.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] | 76968 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20328 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57247 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68798 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92788 |
| 241 | 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] | 1124 |
| 240 | 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] | 1111 |
| 239 | etch defect 관련 질문드립니다 [1] | 1106 |
| 238 | 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] | 1101 |
| 237 | Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] | 1095 |
| 236 | Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] | 1081 |
| 235 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 1079 |
| 234 | Plasma Arching [1] | 1078 |
| 233 | RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] | 1072 |
| 232 |
고전압 방전 전기장 내 측정
[1]  | 1071 |
| 231 | Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] | 1068 |
| » | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 1063 |
| 229 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1051 |
| 228 | DC Plasma 전자 방출 메커니즘 | 1050 |
| 227 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 1041 |
| 226 | 플라즈마 코팅 [1] | 1039 |
| 225 | Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] | 1035 |
| 224 | DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] | 1029 |
| 223 |
CCP Plasma 해석 관련 문의
[1] | 1025 |
| 222 |
langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다.
[1] | 1024 |