Plasma in general 데포 중 RF VDC DROP 현상

2021.07.29 15:44

공효준 조회 수:1544

안녕하세요 반도체회사 장비 엔지니어입니다. 

박막 과정 데포 중 RF VDC가 드랍 되는 현상이 있습니다. GAS양, CH 내 PRESSURE, 등등 변하는 것이 없는데 왜 갑자기 DROP 되는 걸까요?

영향을 줄만한 인자가 어떤 것이 있을까요? 장비를 잘 쓰다가 갑자기 DROP이 일어나고 그 이후는 다시 올라 오지 않습니다 ㅠ

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77192
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20457
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57356
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68897
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92938
505 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1442
504 MATCHER 발열 문제 [3] 1446
503 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1449
502 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1450
501 Ar plasma power/time [1] 1455
500 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1460
499 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1463
498 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1463
497 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1472
496 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1473
495 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1480
494 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1483
493 알고싶습니다 [1] 1483
492 charge effect에 대해 [2] 1499
491 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1503
490 ICP lower power 와 RF bias [1] 1503
489 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1505
488 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1516
487 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1535
» 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1544
쓰기
태그

Boards

XE Login