Remote Plasma PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활
2023.03.02 15:45
기초적인 질문인데요
PECVD 장비에서 Cleaning을 할때 보통 Remote plasma NF3 + Ar Gas를 사용하는데요
Ar Gas의 정확한 역할을 알고 싶습니다.
Purge나 Carrier 용도라면 N2나 O2도 사용가능한데 굳이 Ar을 사용하는 다른 목적이 있는건지 궁금합니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] | 77194 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20457 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57357 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68897 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92941 |
705 | Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] | 1097 |
704 | OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] | 628 |
703 | self bias [1] | 552 |
702 | Self bias 내용 질문입니다. [1] | 876 |
701 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 754 |
700 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 634 |
» | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 1232 |
698 | 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] | 379 |
697 | ICP lower power 와 RF bias [1] | 1503 |
696 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 605 |
695 | 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] | 176 |
694 | RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] | 917 |
693 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 630 |
692 | 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] | 629 |
691 | OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] | 28983 |
690 | plasma modeling 관련 질문 [1] | 395 |
689 | 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] | 752 |
688 | O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. | 749 |
687 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1151 |
686 | Ta deposition시 DC Source Sputtreing | 2365 |